MEMS加工-光刻

應用材料：
● 硅片，玻璃，藍寶石，柔性材料等
接觸式光刻：
● 最小圖形尺寸：1μm，套刻精度：±0.5μm
步進式光刻：
● 投影比例1:5，最小圖形尺寸：0.35μm ，套刻精度≤0.15μm(X,Y)，曝光范圍<22*22mm
電子束光刻：
● 最小圖形尺寸：10nm，套刻精度：40nm，曝光范圍 < 直徑100mm
雙面對準光刻：
● 最小圖形尺寸：1μm，正面套刻精度：±1μm，背面套刻精度：±2μm